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물결 모양의 추상 배경

PVD 设备系列

추상적 인 배경

OC-2500

用途:OLED 制造、光学滤光片生产、光学镜片多层镀膜、

                                                                       光学窗口多层镀膜

型号:OC-2500

功率:Electron Gun 4 ~ 16 kW,Ion Gun 4 kW

加速电压:3,000 ~ 15,000 VDC

产品旋转方式:公转、自转

比威度斯的 PVD Equipment Series 是一套高精度 PVD 光学多层膜真空镀膜设备。

该设备可广泛应用于薄膜沉积、光学镜片生产、滤光片生产、光学窗口生产、半导体制造、新材料研发、材料合成、材料隔离、离子清洗、离子辅助沉积、真空电子束焊接等多种研究、开发及实验领域。

为了提高生产效率和产品品质,该系列设备采用最新技术进行设计,并兼顾设备的稳定性、精密性与工艺扩展性。

系统主要由真空腔体、真空泵、冷却装置、电气控制系统、气动控制系统、真空压力控制系统、镀膜厚度控制系统、气体流量控制系统、

电子束电源系统以及离子束电源系统组成。

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